나노임프린트 리소그래피, EUV에 도전하다: 캐논의 새로운 반도체 제조 시스템, 비용, 에너지, 정밀도에서 경쟁
2023년 9월, 캐논은 가장 진보된 실리콘 칩 제조 방식을 혁신할 수 있는 기술의 상용 버전을 첫 번째로 출하했습니다. 이 기술은 '나노임프린트 리소그래피(Nano Imprint Lithography, NIL)'라고 불리며, 14나노미터 크기의 회로 패턴을 형성할 수 있어 현재 대량 생산 중인 인텔, AMD, 엔비디아의 로직 칩 수준의 성능을 가능하게 합니다. 캐논의 NIL 시스템은 현재 고급 반도체 제조를 지배하는 극자외선(EUV) 리소그래피 스캐너와 비교하여 비용 면에서 매우 경쟁력을 가질 수 있습니다. 만약 캐논의 예측이 맞다면, 그들의 기계는 EUV 수준의 칩을 훨씬 저렴한 비용으로 생산할 수 있을 것입니다. NIL vs EUV: 간단하면서도 효과적인 접근캐논의 NIL 시스템은 ASML(네덜..
2025. 1. 5.